Polierkissen mit Konzentrischem oder Annähernd Konzentrischem Polygonem Rillenmuster
EP2668004
Art B1
24. März 2021
Anmelder: CMC Materials, Inc., Cabot Microelectronics Corporation, Nexplanar Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2668004
- Aktenzeichen
- EP12702367
- Anmeldetag
- 19. Januar 2012
- Veröffentlichung
- 24. März 2021
- Erteilung
- 24. März 2021
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- B24B37/26B24D11/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- CMC Materials, Inc.
Cabot Microelectronics Corporation
Nexplanar Corporation - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Cabot Microelectronics
Cabot Microelectronics war ein US-amerikanischer Hersteller von Polierchemikalien für die Halbleiterfertigung und ist heute Teil von Entegris. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Farben, Klebstoffe und Brennstoffe sowie Halbleiterbauelemente, mit Bezug zur Werkzeug- und Fertigungstechnik. Die Anmeldungen bis 2019 betreffen unter anderem CMP-Zusammensetzungen für die Chip-Planarisierung.
290 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Price, Nigel John King
London, Großbritannien
2.373
Patente gesamt
34
Fachgebiete
28
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Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
J A Kemp LLP
J A Kemp LLP · London