Membranbildende Dotierung für Kohlenstoffmembranen und Verfahren zur Erzeugung von Kohlenstoffhohlfasermembranen damit
EP2671629
Art A1
11. Dezember 2013
Anmelder: NOK Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2671629
- Aktenzeichen
- EP12742623
- Anmeldetag
- 20. Januar 2012
- Veröffentlichung
- 11. Dezember 2013
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- B01D71/02B01D69/08
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- NOK Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
NOK Corporation
Japanisches Unternehmen, das Dichtungen, Elastomerbauteile und elektronische Komponenten vor allem für die Automobilindustrie fertigt.
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Fachgebiete
Vertreten von
Adam, Holger
München, Deutschland
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-
Albrecht, Thomas
NoneMünchen