Verfahren zur galvanischen Ablagerung einer Kupferschicht, galvanisch abgelagerte Kupferschicht und Halbleiterkomponente mit der galvanisch abgelagerten Kupferschicht

EP2672520 Art B1 4. Juli 2018

Anmelder: SEMIKRON Elektronik GmbH & Co. KG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2672520
Aktenzeichen
EP12171065
Anmeldetag
6. Juni 2012
Veröffentlichung
4. Juli 2018
Erteilung
4. Juli 2018
Rechtsraum
EP
IPC
C23C18/16C23C18/18C23C18/40H01L21/288H01L31/0224
Offizieller Volltext

Abstract

The invention is directed to method for electroless deposition of a copper-layer on a semiconductor substrate, an electroless deposited copper layer as well as a semiconductor component comprising said electroless deposited copper layer.

Anmelder

Firma
SEMIKRON Elektronik GmbH & Co. KG
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 Semikron Elektronik

Semikron Elektronik ist ein deutscher Hersteller von Leistungshalbleitern und Umrichtern mit Sitz in Nürnberg, seit 2022 Teil von Semikron Danfoss. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und Elektronikbauelemente sowie elektrische Energietechnik. Die Anmeldungen aus den Jahren 2000 bis 2025 betreffen unter anderem Wechselrichter für Windkraftanlagen und Leistungshalbleitermodule.

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