Verfahren zur Herstellung einer Siliciumdioxidschicht
EP2677536
Art B1
25. März 2020
Anmelder: Merck Patent GmbH, AZ Electronic Materials IP (Japan) K.K. 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2677536
- Aktenzeichen
- EP12747252
- Anmeldetag
- 16. Februar 2012
- Veröffentlichung
- 25. März 2020
- Erteilung
- 25. März 2020
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/316H01L21/76H01L21/768H01L23/522H01L23/532H01L21/762
Abstract
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Anmelder
- Firmen
- Merck Patent GmbH
AZ Electronic Materials IP (Japan) K.K. - Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Merck KGaA
Deutsches Pharma- und Chemieunternehmen mit Sitz in Darmstadt. Aktiv in Biopharmazeutika, Life-Science-Technologien sowie elektronischen Materialien für Halbleiter- und Displayindustrie. Nicht zu verwechseln mit dem US-Unternehmen Merck & Co.
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Kanzlei
Isenbruck Bösl Hörschler PartG mbB
Mannheim, Deutschland
Mannheimer Patentanwaltskanzlei mit fachlich-wissenschaftlichem Team in Chemie, Verfahrenstechnik, Polymeren und Kunststofftechnik, Biotech, Pharma und Life Sciences, Mechanik und Optik sowie Elektrotechnik, Digital und KI.
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