Reflektor für Streifenden Einfall, Lithographiegerät, Verfahren zur Herstellung eines Reflektors für Streifenden Einfall und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
EP2678743
Art B1
4. Juli 2018
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2678743
- Aktenzeichen
- EP12702451
- Anmeldetag
- 18. Januar 2012
- Veröffentlichung
- 4. Juli 2018
- Erteilung
- 4. Juli 2018
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G21K1/06G02B5/08
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Slenders, Petrus Johannes Waltherus
Eindhoven, Niederlande
244
Patente gesamt
17
Fachgebiete
2
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Slenders, Petrus J. W
NoneEindhoven