Systeme und Verfahren zur Optikreinigung in einer Euv-Lichtquelle
EP2681164
Art A1
8. Januar 2014
Anmelder: ASML Netherlands B.V., ASML Netherlands BV, Cymer, LLC 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2681164
- Aktenzeichen
- EP12752776
- Anmeldetag
- 21. Februar 2012
- Veröffentlichung
- 8. Januar 2014
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C03C15/00G03F7/20H05G2/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML Netherlands B.V.
ASML Netherlands BV
Cymer, LLC - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank