Musterbildungsvorrichtung, Gegenüber Aktinischer Strahlen oder Strahlung Empfindliche Harzzusammensetzung und Resistfilm

EP2681623 Art B1 10. Juli 2019

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2681623
Aktenzeichen: EP12752967
Anmeldetag: 24. Februar 2012
Veröffentlichung: 10. Juli 2019
Erteilung: 10. Juli 2019
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/038G03F7/004G03F7/039G03F7/32G03F7/11G03F7/20G03F7/40

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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