Lithografische Vorrichtung, Filter für Spektrale Reinheit und Geräteherstellungsverfahren
EP2681625
Art A1
8. Januar 2014
Anmelder: ASML Netherlands BV 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2681625
- Aktenzeichen
- EP11802413
- Anmeldetag
- 21. Dezember 2011
- Veröffentlichung
- 8. Januar 2014
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G21K1/06
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands BV
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML Netherlands
ASML Netherlands B.V. ist die niederländische Kernsparte des weltweit führenden Herstellers von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Veldhoven. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Optik und Fototechnik, ergänzt um Elektronik, elektrische Energietechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2020.
390 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Ketting, Alfred
Eindhoven, Niederlande
40
Patente gesamt
8
Fachgebiete
2
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Siem, Max Yoe Shé
NoneAmsterdam