Cu-Ga-Legierungs-Sputtertarget und Herstellungsverfahren dafür
EP2684978
Art A1
15. Januar 2014
Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2684978
- Aktenzeichen
- EP12827167
- Anmeldetag
- 6. Juli 2012
- Veröffentlichung
- 15. Januar 2014
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C14/34B22D11/00B22D11/04C22C9/00C22F1/08C22F1/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JX Nippon Mining & Metals Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JX Nippon Mining & Metals
JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.
1.069 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Hoarton, Lloyd Douglas Charles
München, Deutschland
1.651
Patente gesamt
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27
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