System und Verfahren zur Kompensation von Wärmeeffekten in einer Euv-Lichtquelle

EP2692213 Art A1 5. Februar 2014

Anmelder: ASML Netherlands B.V., ASML Netherlands BV, Cymer, LLC 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2692213
Aktenzeichen: EP12764050
Anmeldetag: 6. März 2012
Veröffentlichung: 5. Februar 2014
Rechtsraum: EP
IPC: H05G2/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: ASML Netherlands B.V.
ASML Netherlands BV
Cymer, LLC
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik

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