Sputtertarget und Herstellungsverfahren dafür
EP2700735
Art B1
17. August 2016
Anmelder: Mitsubishi Materials Corporation, Solar Frontier K.K., Showa Shell Sekiyu K. K. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2700735
- Aktenzeichen
- EP12774193
- Anmeldetag
- 20. April 2012
- Veröffentlichung
- 17. August 2016
- Erteilung
- 17. August 2016
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C14/34B22F1/00B22F3/14C22C1/04C22C9/00C22C28/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Mitsubishi Materials Corporation
Solar Frontier K.K.
Showa Shell Sekiyu K. K. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Materials
Japanisches Unternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Metallen und Werkstoffen, unter anderem Kupfer, Zement, Hartmetallwerkzeuge und elektronische Materialien.
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Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München