Inline-Messtechnik zur Aufnahme eines vollständigen Waferprofils für Ebenheit und Oberflächenladung
EP2709145
Art A3
11. Mai 2016
Anmelder: STMicroelectronics, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2709145
- Aktenzeichen
- EP13182996
- Anmeldetag
- 4. September 2013
- Veröffentlichung
- 11. Mai 2016
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/66B24B37/005B24B37/04B24B49/12
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- STMicroelectronics, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇨🇭
STMicroelectronics International
Schweizer Gesellschaft des Halbleiterkonzerns STMicroelectronics, die Chips und Sensoren für Automobiltechnik, Industrie und Unterhaltungselektronik entwickelt.
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Kanzlei
Page White & Farrer
Page White & Farrer wurde bereits 1977 als Londoner Kanzlei europäischer Patentanwälte eingetragen, mit weiteren Büros in Leeds, Exeter und München. Berät zu Patenten, Marken, Designrechten sowie IP-Strategie und Finanzierungsrunden, Schwerpunkte Künstliche Intelligenz, Life Sciences und Cleantech.
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