Reflektierendes Optisches Element und Optisches System für die Euv-Lithografie

EP2710415 Art B1 4. Juli 2018

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2710415
Aktenzeichen: EP12720522
Anmeldetag: 15. Mai 2012
Veröffentlichung: 4. Juli 2018
Erteilung: 4. Juli 2018
Rechtsraum: EP
IPC: G02B1/10G02B5/08G02B27/00G02B19/00G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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