Gegenüber Aktinischer Strahlung Empfindliche Bzw. Strahlungsempfindliche Harzzusammensetzung, Gegenüber Aktinischer Strahlung Empfindlicher Bzw. Strahlungsempfindlicher Film daraus und Strukturbildungsverfahren damit

EP2721446 Art B1 22. November 2017

Anmelder: FUJIFILM Corporation, Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2721446
Aktenzeichen: EP12801083
Anmeldetag: 14. Juni 2012
Veröffentlichung: 22. November 2017
Erteilung: 22. November 2017
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/039C08F8/00C08F212/14C08F220/20H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: FUJIFILM Corporation
Fujifilm Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

21.752 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von