Verfahren zur Herstellung eines Reflektierenden Optischen Elements für Euv Lithographie

EP2724346 Art B1 8. August 2018

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2724346
Aktenzeichen: EP12728547
Anmeldetag: 19. Juni 2012
Veröffentlichung: 8. August 2018
Erteilung: 8. August 2018
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20G21K1/06G02B5/08C23C14/54C23C14/58C23C14/35B82Y10/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

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