Verfahren zur Herstellung eines Dmos-Transistors mit einem Hohlraum unter dem Driftbereich
EP2724378
Art B1
22. Januar 2020
Anmelder: Texas Instruments Incorporated 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2724378
- Aktenzeichen
- EP12776943
- Anmeldetag
- 26. April 2012
- Veröffentlichung
- 22. Januar 2020
- Erteilung
- 22. Januar 2020
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L29/78H01L21/336
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Texas Instruments Incorporated
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Texas Instruments
US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Dallas (Texas). Entwickelt und fertigt analoge und eingebettete Halbleiterprodukte, Prozessoren sowie Schaltkreise für Industrie, Automobil- und Konsumelektronik.
3.600 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Weitere Vertreter
-
Holt, Michael
NoneNorthampton