System und Verfahren zur Automatischen Gasoptimierung in einem Zweikammer-Gasentladungslasersystem

EP2727199 Art B1 9. Januar 2019

Anmelder: Cymer, LLC 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2727199
Aktenzeichen: EP12803599
Anmeldetag: 5. Juni 2012
Veröffentlichung: 9. Januar 2019
Erteilung: 9. Januar 2019
Rechtsraum: EP
IPC: H01S3/22H01S3/104H01S3/23H01S3/225H01S3/036

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Cymer, LLC
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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