Stromversorgung für eine Quelle von mittels Plasmaentladung Erzeugter Euv Strahlung
Anmelder: Ushio Denki Kabushiki Kaisha, USHIO Denki Kabushiki Kaisha, ASML Netherlands BV 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2732558
- Aktenzeichen
- EP12719613
- Anmeldetag
- 19. April 2012
- Veröffentlichung
- 6. März 2019
- Erteilung
- 6. März 2019
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20H04B3/02H04B3/54H04L25/02H05G2/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Ushio Denki Kabushiki Kaisha
USHIO Denki Kabushiki Kaisha
ASML Netherlands BV - Land
- 🇯🇵 Japan
Japanischer Hersteller von Lichtquellen wie Speziallampen, Lasern und LED-Modulen für Industrie, Halbleiterfertigung und Optik mit Sitz in Tokio.
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ASML Netherlands B.V. ist die niederländische Kernsparte des weltweit führenden Herstellers von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Veldhoven. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Optik und Fototechnik, ergänzt um Elektronik, elektrische Energietechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2020.
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Riedel, Peter
NoneStuttgart