Sputtertarget und Herstellungsverfahren dafür
EP2733235
Art B1
3. Mai 2017
Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2733235
- Aktenzeichen
- EP12836521
- Anmeldetag
- 12. September 2012
- Veröffentlichung
- 3. Mai 2017
- Erteilung
- 3. Mai 2017
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C14/34H01L21/28H01L21/285H01J37/34B21D53/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JX Nippon Mining & Metals Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JX Nippon Mining & Metals
JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.
1.069 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Hoarton, Lloyd Douglas Charles
München, Deutschland
1.651
Patente gesamt
34
Fachgebiete
27
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