Strahlungsquelle und Lithografischer Apparat
EP2742387
Art B1
1. April 2015
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2742387
- Aktenzeichen
- EP13704760
- Anmeldetag
- 7. Februar 2013
- Veröffentlichung
- 1. April 2015
- Erteilung
- 1. April 2015
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20H05G2/00B01L3/02B41J2/045
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Siem, Max Yoe Shé
Amsterdam, Niederlande
151
Patente gesamt
19
Fachgebiete
5
Anmelder-Länder
Schwerpunkte