Strahlungsquelle
EP2742780
Art B1
15. März 2017
Anmelder: ASML Netherlands BV 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2742780
- Aktenzeichen
- EP11801681
- Anmeldetag
- 13. Dezember 2011
- Veröffentlichung
- 15. März 2017
- Erteilung
- 15. März 2017
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H05G2/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands BV
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML Netherlands
ASML Netherlands B.V. ist die niederländische Kernsparte des weltweit führenden Herstellers von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Veldhoven. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Optik und Fototechnik, ergänzt um Elektronik, elektrische Energietechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2020.
390 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Ketting, Alfred
Eindhoven, Niederlande
40
Patente gesamt
8
Fachgebiete
2
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Siem, Max Yoe Shé
NoneAmsterdam