Strahlungsquelle und Verfahren für eine Lithografische Vorrichtung sowie Geräteherstellungsverfahren
EP2745648
Art B1
20. Januar 2016
Anmelder: ASML Netherlands B.V., ASML Netherlands BV 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2745648
- Aktenzeichen
- EP12740518
- Anmeldetag
- 4. Juli 2012
- Veröffentlichung
- 20. Januar 2016
- Erteilung
- 20. Januar 2016
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H05G2/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML Netherlands B.V.
ASML Netherlands BV - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
5.380 Patente in unserer Datenbank
🇳🇱
ASML Netherlands
ASML Netherlands B.V. ist die niederländische Kernsparte des weltweit führenden Herstellers von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Veldhoven. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Optik und Fototechnik, ergänzt um Elektronik, elektrische Energietechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2020.
390 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Siem, Max Yoe Shé
Amsterdam, Niederlande
151
Patente gesamt
19
Fachgebiete
5
Anmelder-Länder
Schwerpunkte