Verfahren zur Bewertung von Druckmotiven auf einer Platte oder einer Maske durch Elektronenstrahllithografie, und entsprechende Druckvorrichtung
Anmelder: Commissariat à l'Énergie Atomique et aux Énergies Alternatives, Aselta Nanographics 🇫🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2746852
- Aktenzeichen
- EP13196173
- Anmeldetag
- 9. Dezember 2013
- Veröffentlichung
- 18. April 2018
- Erteilung
- 18. April 2018
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G03F1/00G03F1/36G06F17/50H01J37/317G03F1/82
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Commissariat à l'Énergie Atomique et aux Énergies Alternatives
Aselta Nanographics - Land
- 🇫🇷 Frankreich
Die Commissariat à l'Énergie Atomique et aux Énergies Alternatives (CEA) ist eine französische staatliche Forschungseinrichtung mit Schwerpunkt Kernenergie, alternative Energien und Grundlagenforschung. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Mess- und Prüftechnik, ergänzt durch Software, Energietechnik und Werkstoffkunde. Anmeldungen sind seit 2000 durchgehend belegt.
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2008 gegründet von einem Ingenieur mit vorheriger Erfahrung als zugelassener Vertreter beim Europäischen Patentamt. Schwerpunkt auf Elektronik, Informatik, Telekommunikation und Signalverarbeitung, betreut Großkonzerne bis Einzelerfinder auf Französisch und Englisch.