Verfahren zur verflachung einer festen Oberfläche mit einem Gascluster-Ionenstrahl
EP2747120
Art B1
20. Dezember 2017
Anmelder: JAPAN AVIATION ELECTRONICS INDUSTRY, LIMITED, JAPAN AVIATION ELECTRONICS INDUSTRY LIMITED 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2747120
- Aktenzeichen
- EP14160257
- Anmeldetag
- 30. Oktober 2007
- Veröffentlichung
- 20. Dezember 2017
- Erteilung
- 20. Dezember 2017
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01J37/20H01L21/3065
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- JAPAN AVIATION ELECTRONICS INDUSTRY, LIMITED
JAPAN AVIATION ELECTRONICS INDUSTRY LIMITED - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Japan Aviation Electronics Industry
Japanischer Hersteller elektronischer Steckverbinder und Sensoren mit Sitz in Tokio, mehrheitlich im Besitz des Elektronikkonzerns Alps Alpine.
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