Verfahren zur Herstellung einer Nichtflüchtigen, Split-Gate-Speicherzelle mit Separatem Lösch-Gate und So Hergestellte Speicherzelle

EP2748842 Art A1 2. Juli 2014

Anmelder: Silicon Storage Technology Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2748842
Aktenzeichen
EP12826205
Anmeldetag
8. August 2012
Veröffentlichung
2. Juli 2014
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/4763H01L29/423H01L29/66H01L29/788H01L27/115H01L21/28
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Silicon Storage Technology Inc.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Silicon Storage Technology

Silicon Storage Technology ist ein US-amerikanischer Halbleiterhersteller, der auf nichtflüchtige Speichertechnologien spezialisiert ist und zu Microchip Technology gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich stark auf Datenspeicherung sowie Halbleiter und elektrische Bauelemente, ergänzt durch Software. Anmeldungen laufen durchgehend seit 2000.

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