Strahlungsquelle, Lithographischer Apparat, Düse, und Verfahren zur Herstellung einer Düse
EP2752098
Art A1
9. Juli 2014
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2752098
- Aktenzeichen
- EP12745662
- Anmeldetag
- 27. Juli 2012
- Veröffentlichung
- 9. Juli 2014
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20H05G2/00B41J2/16
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Ketting, Alfred
Eindhoven, Niederlande
40
Patente gesamt
8
Fachgebiete
2
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Siem, Max Yoe Shé
NoneAmsterdam