Plasmaerzeugungsvorrichtung, Cvd-Vorrichtung und Partikelerzeugungsvorrichtung zur Plasmabehandlung
EP2755454
Art B1
5. Juni 2019
Anmelder: Toshiba Mitsubishi-Electric Industrial Systems Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2755454
- Aktenzeichen
- EP12829850
- Anmeldetag
- 23. April 2012
- Veröffentlichung
- 5. Juni 2019
- Erteilung
- 5. Juni 2019
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H05H1/24C23C16/452C23C16/505H01L21/31H01J37/32
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Toshiba Mitsubishi-Electric Industrial Systems Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Toshiba Mitsubishi-Electric Industrial Systems Corporation
Japanisches Gemeinschaftsunternehmen von Toshiba und Mitsubishi Electric für industrielle Antriebssysteme, Motoren und Automatisierungstechnik.
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Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München