Verfahren zur Charakterisierung von flachen Dotiergebieten für die Verwendung in Halbleiterbauelementen

EP2757579 Art B1 19. Juni 2019

Anmelder: IMEC VZW, IMEC 🇧🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2757579
Aktenzeichen: EP13151644
Anmeldetag: 17. Januar 2013
Veröffentlichung: 19. Juni 2019
Erteilung: 19. Juni 2019
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/66// G01R31/26

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: IMEC VZW
IMEC
Land: 🇧🇪 Belgien

🇧🇪 imec

Imec ist ein belgisches Forschungszentrum mit Sitz in Leuven, das auf Nanoelektronik, Halbleitertechnologie und digitale Technologien spezialisiert ist.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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