Strukturformungsverfahren, Elektronenstrahlempfindliche oder Extrem-Uv-Strahlungsempfindliche Harzzusammensetzung, Resistschicht, Herstellungsverfahren für eine Elektronische Vorrichtung damit und Elektronische Vorrichtung

EP2761372 Art A1 6. August 2014

Anmelder: Fujifilm Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2761372
Aktenzeichen: EP12834887
Anmeldetag: 28. August 2012
Veröffentlichung: 6. August 2014
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/004G03F7/038G03F7/039G03F7/32H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fujifilm Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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