System und Verfahren für Hochpräzise Gasnachfüllung in einem Zweikammern-Gasentladungslasersystem

EP2761709 Art B1 20. April 2016

Anmelder: Cymer, LLC 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2761709
Aktenzeichen: EP12835486
Anmeldetag: 28. August 2012
Veröffentlichung: 20. April 2016
Erteilung: 20. April 2016
Rechtsraum: EP
IPC: H01S3/036H01S3/225H01S3/097H01S3/00// H01S3/23

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Cymer, LLC
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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