Sputtertarget auf Fe-Ai-Basis
EP2762606
Art B1
13. April 2016
Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2762606
- Aktenzeichen
- EP12835109
- Anmeldetag
- 26. April 2012
- Veröffentlichung
- 13. April 2016
- Erteilung
- 13. April 2016
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C14/34C23C14/16
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JX Nippon Mining & Metals Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JX Nippon Mining & Metals
JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.
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Vertreten von
Hoarton, Lloyd Douglas Charles
München, Deutschland
1.651
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