Verfahren zur Entfernung eines isocyanat-basierten Rückstands
Anmelder: Covestro Deutschland AG, Bayer MaterialScience AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2772528
- Aktenzeichen
- EP13157115
- Anmeldetag
- 28. Februar 2013
- Veröffentlichung
- 16. August 2017
- Erteilung
- 16. August 2017
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C11D7/06C11D7/26C11D7/32C11D7/50C11D11/00
Abstract
Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist ein Verfahren zur Entfernung eines Isocyanatbasierten Rückstands von einem Substrat, bei dem der Rückstand mit einem Gemisch umfassend ein Polyol, eine anorganische Base und ein Amin von dem Substrat gelöst wird.
Anmelder
- Firmen
- Covestro Deutschland AG
Bayer MaterialScience AG - Land
- 🇩🇪 Deutschland
Deutsches Chemieunternehmen mit Sitz in Leverkusen. Covestro entwickelt und produziert Hochleistungskunststoffe wie Polyurethane und Polycarbonate für Automobil-, Bau- und Elektronikindustrie.
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Ehemalige Kunststoff- und Polymersparte des deutschen Bayer-Konzerns mit Schwerpunkt auf Polyurethanen, Polycarbonaten und Beschichtungsrohstoffen. Der Geschäftsbereich wurde 2015 als eigenständiges Unternehmen unter dem Namen Covestro ausgegliedert.
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Fachgebiete
Vertreten von
-
Levpat
Levpat · Leverkusen
-
BIP Patents
BIP Patents · Monheim am Rhein