Verfahren zur Entfernung eines isocyanat-basierten Rückstands
EP2772528
Art B1
16. August 2017
Anmelder: Covestro Deutschland AG, Bayer MaterialScience AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2772528
- Aktenzeichen
- EP13157115
- Anmeldetag
- 28. Februar 2013
- Veröffentlichung
- 16. August 2017
- Erteilung
- 16. August 2017
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C11D7/06C11D7/26C11D7/32C11D7/50C11D11/00
Abstract
Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist ein Verfahren zur Entfernung eines Isocyanatbasierten Rückstands von einem Substrat, bei dem der Rückstand mit einem Gemisch umfassend ein Polyol, eine anorganische Base und ein Amin von dem Substrat gelöst wird.
Anmelder
- Firmen
- Covestro Deutschland AG
Bayer MaterialScience AG - Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Covestro Deutschland
Deutsches Chemieunternehmen mit Sitz in Leverkusen. Covestro entwickelt und produziert Hochleistungskunststoffe wie Polyurethane und Polycarbonate für Automobil-, Bau- und Elektronikindustrie.
2.470 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
-
Levpat
Levpat · Leverkusen
-
BIP Patents
BIP Patents · Monheim am Rhein