Fotolithografieverfahren mit Doppelmaske, bei dem die Auswirkung von Substratfehlern minimiert ist
Anmelder: Commissariat à l'Energie Atomique et aux Energies Alternatives, COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ET AUX ENERGIES ALTERNATIVES 🇫🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2772802
- Aktenzeichen
- EP14155467
- Anmeldetag
- 17. Februar 2014
- Veröffentlichung
- 17. August 2016
- Erteilung
- 17. August 2016
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G03F1/72G03F1/84
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Commissariat à l'Energie Atomique et aux Energies Alternatives
COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ET AUX ENERGIES ALTERNATIVES - Land
- 🇫🇷 Frankreich
Französisches staatliches Forschungsinstitut mit Sitz in Paris (Verwaltung) und Standorten wie Grenoble und Saclay. Forscht in Kernenergie, erneuerbaren Energien, Mikroelektronik, Werkstoffwissenschaften, Verteidigungstechnik und Informationstechnologien.
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Fachgebiete
Der Standort in Arcueil bei Paris firmierte als Marks & Clerk France, 2005 gegründet, Schwerpunkt europäische Patente in Elektronik, Informatik und Telekommunikation. 2022 von der Vidon-Gruppe übernommen und als Atout[PI] Laplace weitergeführt, einer der größten französischen IP-Beratungsverbünde.