Verfahren zur Vermeidung von Aufladungseffekten für die Lithographie und Elektronenmikroskopie
EP2774000
Art B1
6. September 2017
Anmelder: Université Paris-Sud 11, Centre National de la Recherche Scientifique 🇫🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2774000
- Aktenzeichen
- EP12795496
- Anmeldetag
- 30. Oktober 2012
- Veröffentlichung
- 6. September 2017
- Erteilung
- 6. September 2017
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/11G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Université Paris-Sud 11
Centre National de la Recherche Scientifique - Land
- 🇫🇷 Frankreich
🇫🇷
Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)
Französische staatliche Forschungsorganisation mit Sitz in Paris. Betreibt Grundlagen- und angewandte Forschung in nahezu allen wissenschaftlichen Disziplinen über zahlreiche Institute und Labore.
13.083 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
-
IPAZ
IPAZ · Paris
-
Pontet Allano & Associes
Pontet Allano & Associes · Orsay