Auf Prozessvariation Basierende Modelloptimierung für Metrologie
EP2774175
Art A1
10. September 2014
Anmelder: KLA-Tencor Corporation, Tokyo Electron Limited, Kla-Tencor Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2774175
- Aktenzeichen
- EP12846765
- Anmeldetag
- 26. Oktober 2012
- Veröffentlichung
- 10. September 2014
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/66G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- KLA-Tencor Corporation
Tokyo Electron Limited
Kla-Tencor Corporation - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
KLA Corporation
US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.
495 Patente in unserer Datenbank
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
2.414 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Keane, Paul Fachtna
Dublin, Irland
492
Patente gesamt
30
Fachgebiete
16
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Manley, Nicholas Michael
NoneLiverpool