Zyklische Verbindung, Herstellungsverfahren Dafür, Strahlungsempfindliche Zusammensetzung und Verfahren zur Formung einer Resiststruktur
EP2781501
Art A1
24. September 2014
Anmelder: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2781501
- Aktenzeichen
- EP12849406
- Anmeldetag
- 14. November 2012
- Veröffentlichung
- 24. September 2014
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C07C43/215C07C37/20C07C41/16G03F7/004G03F7/038H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Gas Chemical Company
Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.
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Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München