Tantal-Sputtertarget und Herstellungsverfahren dafür

EP2781619 Art A1 24. September 2014

Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2781619
Aktenzeichen
EP13764344
Anmeldetag
19. März 2013
Veröffentlichung
24. September 2014
Rechtsraum
EP
IPC
C23C14/34C22F1/18C23C14/14H01L21/28H01L21/285C22F1/00B22D21/06C22C27/02H01J37/34H01L21/768
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
JX Nippon Mining & Metals Corporation
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Vertreten von
Hoarton, Lloyd Douglas Charles München, Deutschland
1.651
Patente gesamt
34
Fachgebiete
27
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Software & Datenverarbeitung Medizintechnik & Gesundheit Metallurgie & Oberflächentechnik Nachrichtentechnik & Telekommunikation Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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