Sputtertarget aus einer Silberlegierung zur Herstellung eines Leitfähigen Films und Herstellungsverfahren dafür
EP2803754
Art B1
8. März 2017
Anmelder: Mitsubishi Materials Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2803754
- Aktenzeichen
- EP12864833
- Anmeldetag
- 9. Mai 2012
- Veröffentlichung
- 8. März 2017
- Erteilung
- 8. März 2017
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C14/34B21B3/00C22C5/06H01L51/50H05B33/10H05B33/26
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Mitsubishi Materials Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Materials
Japanisches Unternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Metallen und Werkstoffen, unter anderem Kupfer, Zement, Hartmetallwerkzeuge und elektronische Materialien.
1.978 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München