Aus einer sinterungsresistenten Metalllegierung mit hohem Schmelzpunkt geformtes Target, Metallsilicid mit hohem Schmelzpunkt, Metallcarbid mit hohem Schmelzpunkt, Metallnitrid mit hohem Schmelzpunkt oder Metallborid mit hohem Schmelzpunkt, Verfahren zur Herstellung des Targets, Anordnung für eine Sputter-Target-Rückplatte und Herstellungsverfahren dafür
EP2806048
Art B1
11. Oktober 2017
Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2806048
- Aktenzeichen
- EP14178019
- Anmeldetag
- 30. Januar 2008
- Veröffentlichung
- 11. Oktober 2017
- Erteilung
- 11. Oktober 2017
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C14/34B23K20/00C04B37/02
Abstract
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Anmelder
- Firma
- JX Nippon Mining & Metals Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JX Nippon Mining & Metals
JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.
1.069 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Hoarton, Lloyd Douglas Charles
München, Deutschland
1.651
Patente gesamt
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27
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