Hochreines Kupfer-Mangan-Legierungs-Sputtertarget
EP2808419
Art B1
31. August 2016
Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2808419
- Aktenzeichen
- EP13740668
- Anmeldetag
- 4. Januar 2013
- Veröffentlichung
- 31. August 2016
- Erteilung
- 31. August 2016
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C14/34H01L21/285H01L23/532
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JX Nippon Mining & Metals Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JX Nippon Mining & Metals
JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.
1.069 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Hoarton, Lloyd Douglas Charles
München, Deutschland
1.651
Patente gesamt
34
Fachgebiete
27
Anmelder-Länder
Schwerpunkte