Oxid-Sputtertarget und Schutzfilm für Optisches Aufzeichnungsmedium
EP2813598
Art A1
17. Dezember 2014
Anmelder: Mitsubishi Materials Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2813598
- Aktenzeichen
- EP13746711
- Anmeldetag
- 6. Februar 2013
- Veröffentlichung
- 17. Dezember 2014
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C14/34C04B35/453G11B7/254G11B7/257G11B7/26
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Mitsubishi Materials Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Materials
Japanisches Unternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Metallen und Werkstoffen, unter anderem Kupfer, Zement, Hartmetallwerkzeuge und elektronische Materialien.
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Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München