Fotolack-Unterschichtfilmbildende Zusammensetzung und Musterbildungsverfahren
EP2813890
Art B1
30. Mai 2018
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2813890
- Aktenzeichen
- EP14171729
- Anmeldetag
- 10. Juni 2014
- Veröffentlichung
- 30. Mai 2018
- Erteilung
- 30. Mai 2018
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/09G03F7/42G03F7/075
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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Merkle, Gebhard
München, Deutschland
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Ter Meer Steinmeister & Partner
Ter Meer Steinmeister & Partner · München