Kohlenstoffdotierungsgas und Co-Flow zur Optimierung der Implantatstrahl- und Quellenlebensdauerleistung

EP2815424 Art B1 16. August 2017

Anmelder: ENTEGRIS INC., Advanced Technology Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP2815424
Aktenzeichen
EP13748952
Anmeldetag
13. Februar 2013
Veröffentlichung
16. August 2017
Erteilung
16. August 2017
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/265H01J37/317H01J37/08
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
ENTEGRIS INC.
Advanced Technology Materials, Inc.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Entegris

US-amerikanischer Hersteller von Spezialmaterialien und Filtrationslösungen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Massachusetts.

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