Verfahren zur Herstellung von Fotomaskenrohlingen und Fotomaskenrohling
EP2821853
Art B1
17. Februar 2016
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2821853
- Aktenzeichen
- EP14175323
- Anmeldetag
- 1. Juli 2014
- Veröffentlichung
- 17. Februar 2016
- Erteilung
- 17. Februar 2016
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/26G03F1/32G03F1/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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Vertreten von
Smaggasgale, Gillian Helen
London, Großbritannien
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