Reinigungsverfahren für Dünnfilm-Verarbeitungsanwendungen und Vorrichtung zur Verwendung darin

EP2827359 Art B1 12. Juni 2019

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2827359
Aktenzeichen: EP13176899
Anmeldetag: 17. Juli 2013
Veröffentlichung: 12. Juni 2019
Erteilung: 12. Juni 2019
Rechtsraum: EP
IPC: H01J37/32

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

6.825 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von