Pvd-Aln-Film mit Sauerstoffdotierung für einen Hartmaskenfilm mit Niedriger Ätzrate

EP2842158 Art A1 4. März 2015

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2842158
Aktenzeichen: EP13782077
Anmeldetag: 18. April 2013
Veröffentlichung: 4. März 2015
Rechtsraum: EP
IPC: C23C14/06H01L21/033H01L21/3213H01L21/318

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von