Verfahren zur Herstellung eines Glassubstrat mit einer Siliciumoxidschicht mit Feinen Anorganischen Teilchen

EP2842920 Art A1 4. März 2015

Anmelder: Asahi Glass Company, Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2842920
Aktenzeichen: EP13781896
Anmeldetag: 23. April 2013
Veröffentlichung: 4. März 2015
Rechtsraum: EP
IPC: C03C17/25C03C17/34H01L31/04H01L51/50H05B33/02G02B5/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Asahi Glass Company, Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 AGC (Asahi Glass)

Japanischer Glas- und Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, früher als Asahi Glass Company firmierend. AGC entwickelt Flachglas, elektronische Materialien, Spezialchemikalien sowie Glasprodukte für Automobil-, Bau- und Elektronikindustrie.

7.332 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

Vertreten von