Mehrschichtfilmreflektor und Röntgenstrahlexpositionssystem
EP2854159
Art B1
20. Juni 2018
Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP2854159
- Aktenzeichen
- EP14186179
- Anmeldetag
- 24. Mai 2004
- Veröffentlichung
- 20. Juni 2018
- Erteilung
- 20. Juni 2018
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/027G03F7/20G21K1/06G02B5/08
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Nikon Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nikon
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.
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Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München