Substratverarbeitungsverfahren

EP2854160 Art B1 8. April 2020

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP2854160
Aktenzeichen: EP13794483
Anmeldetag: 16. April 2013
Veröffentlichung: 8. April 2020
Erteilung: 8. April 2020
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/3065H01J37/32

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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