Verfahren zur Herstellung von einem Nanostrukturierten Artikel unter Verwendung von Nanoimprint-Lithografie, Nanostrukturierter Artikel und Verwendung davon

EP2856258 Art B1 6. Januar 2021

Anmelder: Micro Resist Technology Gesellschaft für chemische Materialien spezieller Photoresistsysteme mbH 🇩🇪

Details

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Firma: Micro Resist Technology Gesellschaft für chemische Materialien spezieller Photoresistsysteme mbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

Optik & Fototechnik

Vertreten von

Feldmann, Ute Berlin, Deutschland

Patente gesamt

Fachgebiete

Anmelder-Länder

Schwerpunkte

Medizintechnik & Gesundheit Organische Chemie Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Pharma & Biotechnologie Optik & Fototechnik Haushalts-, Möbel- & Konsumgüter

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